大日本印刷 フォトマスク開発 3ナノ対応 2023年12月第4週

Published On: Sep 17, 2024
大日本印刷は、最先端半導体の回路形成に使う原版「フォトマスク」を開発しました。
回路線幅が3ナノメートル品と呼ぶ半導体に対応します。      
>世界のフォトマスク 市場規模 22年比39%増 77億3928万ドル(2029年)
当面は、半導体製造装置や材料などを手掛ける企業の研究開発用としての需要を見込みます。
(大日本印刷 発表)